51探花

理化学研究所（理研）创発物性科学研究センター强相関物性研究グループの安田宪司研修生（东京大学大学院工学系研究科　大学院生）、十仓好纪グループディレクター（同　教授）、强相関界面研究グループの川﨑雅司グループディレクター（同　教授）、强相関理论研究グループの若月良平研修生（同　大学院生）、永长直人グループディレクター（同　教授）、东北大学金属材料研究所の塚﨑敦教授らの共同研究グループは、トポロジカル絶縁体である(叠颈_1-ySb_y)₂Te₃（叠颈：ビスマス、厂产：アンチモン、罢别：テルル）薄膜上に、磁性元素颁谤（クロム）を添加したトポロジカル絶縁体颁谤虫(Bi_1-ySb_y)_2-ｘTe₃を积层させた构造の作製により微小な涡状の磁気构造である磁気スキルミオンを生成することに成功し、スキルミオン生成の新たな设计指针を见出しました。

　成果は、英国の科学雑誌『Nature Physics』に掲載されるのに先立ち、オンライン版に掲載されました。

トポロジカル絶縁体积层构造によるスキルミオン形成の概念図

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〈研究に関すること〉
东北大学金属材料研究所
教授 塚﨑　敦
Tel: 022-215-2085　
E-mail : tsukazaki*imr.tohoku.ac.jp（*を＠に置き换えてください）

〈报道に関すること〉
东北大学金属材料研究所 情報企画室広報班
Tel: 022-215-2144　
E-mail : pro-adm*imr.tohoku.ac.jp（*を＠に置き换えてください）