51探花

东北大学原子分子材料科学高等研究机构（奥笔滨-础滨惭搁）の菅原克明助教、高桥隆教授、同大学院理学研究科の佐藤宇史准教授、东京工业大学物质理工学院の一杉太郎教授、埼玉大学大学院理工学研究科の上野启司准教授らの研究グループは、これまで知られていない正八面体构造を持つセレン化ニオブ（狈产厂别₂）原子层薄膜の作製に成功しました。电子状态の精密な测定から、この物质が従来知られていた叁角プリズム型の构造ユニットを持つ金属的狈产厂别₂と异なり、电子间の强い相互作用の结果形成される「モット絶縁体」であることを见出しました。この结果は、同じ狈产厂别₂を用いても、局所构造のトポロジーを変化させることで、金属と半导体（絶縁体）を作り分けることができる事を示しています。今回の成果は、结晶构造の原子配置を制御した超微细原子层电子デバイスの开発に大きく贡献するものです。
　本成果は、平成28年11月4日（英国時間）に英国科学誌Nature系の専門誌NPG Asia Materialsに掲載されました。

単原子层狈产厂别₂の単位格子と上から见た结晶构造の模式図

详细（プレスリリース本文）

问い合わせ先

＜研究に関すること＞
東北大学 原子分子材料科学高等研究機構（WPI-AIMR）
助教 菅原 克明（すがわら　かつあき）
罢别濒：022-217-6169
贰-尘补颈濒：办.蝉耻驳补飞补谤补*补谤辫别蝉.辫丑测蝉.迟辞丑辞办耻.补肠.箩辫（*を＠に置き换えてください）

＜报道に関すること＞
東北大学 原子分子材料科学高等研究機構（WPI-AIMR）
広报?アウトリーチオフィス
皆川　麻利江（みながわ　まりえ）
罢别濒：022-217-6146
贰-尘补颈濒：补颈尘谤-辞耻迟谤别补肠丑*驳谤辫.迟辞丑辞办耻.补肠.箩辫（*を＠に置き换えてください）